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江西漢可泛半導(dǎo)體技術(shù)有限公司

HAC-201型年產(chǎn)250MW非晶硅/晶體硅異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)電池用全自動(dòng)熱絲CVD非晶硅薄膜生長(zhǎng)線

● 基本功能：

每小時(shí)4000片166硅片，最大可兼容210硅片；配套其它國(guó)產(chǎn)先進(jìn)產(chǎn)線設(shè)備可實(shí)現(xiàn) 量產(chǎn)平均電池效率>24.5%。

● 運(yùn)行性能穩(wěn)定、維護(hù)簡(jiǎn)易、成本低：

設(shè)備免維護(hù)周期長(zhǎng)。~30天維護(hù)保養(yǎng)一次。無(wú)需每天刻蝕清洗載板和腔體。
自制熱絲耗材，承諾長(zhǎng)期平價(jià)供應(yīng)。
鍍膜氣壓低、氣耗低。相比PECVD粉塵大幅度減少、用氣成本降低。
立式結(jié)構(gòu)：可有效避免鍍膜產(chǎn)生的粉塵顆粒污染表面，提高連續(xù)生產(chǎn)太陽(yáng)電池填充因子和良品率。
自動(dòng)化與載板協(xié)調(diào)同步設(shè)計(jì)。減少設(shè)備宕機(jī)，減少設(shè)備維護(hù)難度和備件庫(kù)存；減少設(shè)備備件維修成本。

● 鍍膜質(zhì)量好，無(wú)等離子對(duì)界面的損傷。

全部產(chǎn)品

每小時(shí)4000片166硅片，最大可兼容210硅片；配套其它國(guó)產(chǎn)先進(jìn)產(chǎn)線設(shè)備可實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)平均電池效率>24.5%。

每小時(shí)8000片166硅片，最大可兼容210硅片；配套其它國(guó)產(chǎn)先進(jìn)產(chǎn)線設(shè)備可實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)平均電池效率>24.5%。

非標(biāo)定制設(shè)備，主要用于在單晶硅片上采用熱絲CVD方式鍍制非晶硅p層、非晶硅i層、非晶硅n層；采用磁控濺射（PVD）方式鍍制TCO薄膜。

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HJT降本神器！熱絲CVD有望短期內(nèi)反超PECVD
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發(fā)布時(shí)間 : 2022-05-29 00:00:00
異質(zhì)結(jié)技術(shù)推廣最大的瓶頸就是設(shè)備成本，最突出的是在非晶硅/微晶硅鍍膜的CVD段。目前主流的PECVD技術(shù)占4億元/GW異質(zhì)結(jié)設(shè)備投資成本的50%左右，按近年來(lái)降價(jià)的節(jié)奏、設(shè)備構(gòu)成和成本看，其成本下降空間不大，而熱絲CVD（HotFilament CVD, 以下簡(jiǎn)稱HoFCVD）技術(shù)，因?yàn)樵聿煌?，設(shè)備的構(gòu)成有了質(zhì)的變化，成本下降空間能大幅打開(kāi)，短期內(nèi)將CVD設(shè)備成本下降50%以上都是可能的。
按照每GW節(jié)省1億元的投資成本，現(xiàn)在異質(zhì)結(jié)投資的規(guī)劃多在10GW以上，項(xiàng)目投資可節(jié)省10億元人民幣以上，熱絲CVD很可能在短期內(nèi)成為CVD技術(shù)的主流。
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按照每GW節(jié)省1億元的投資成本，現(xiàn)在異質(zhì)結(jié)投資的規(guī)劃多在10GW以上，項(xiàng)目投資可節(jié)省10億元人民幣以上，熱絲CVD很可能在短期內(nèi)成為CVD技術(shù)的主流。
江西漢可泛半導(dǎo)體技術(shù)有限公司

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